APPARATUS FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing a glass substrate, capable of manufacturing the glass substrate having a fine uneven pattern applied on the surface.SOLUTION: An apparatus 1 for manufacturing a glass substrate, capable of heating a glass substrate W to press-mold a fin...

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1. Verfasser: SHOGETSU ISAO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing a glass substrate, capable of manufacturing the glass substrate having a fine uneven pattern applied on the surface.SOLUTION: An apparatus 1 for manufacturing a glass substrate, capable of heating a glass substrate W to press-mold a fine unevenness shape on the glass substrate W comprises: a loading stage 5 placing the glass substrate W and electrically grounded; a molding roll 3 having a fine unevenness shape opposite to that transferred on the glass substrate W and for molding a glass substrate having a fine unevenness shape by rotatably moving while pressing the glass substrate W placed on the loading stage 5; a support 9 for supporting both ends of the molding roll 3 with an insulator; a contact electrode 3A for applying a voltage to the molding roll 3; and voltage applying means 21A for applying a voltage between the loading stage 5 and the molding roll 3.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】表面に微細な凹凸パターンが施されたガラス基板を製造するガラス基板生成装置を提供する。【解決手段】ガラス基板Wを加熱して、ガラス基板Wに微細な凹凸形状を押圧成形するガラス基板生成装置1である。そして、ガラス基板Wが載置され、電気的に接地される積載ステージ5と、ガラス基板Wに転写される微細な凹凸形状と反対の微細な凹凸形状が設けられており、積載ステージ5に載置されているガラス基板Wに押し付けられながら回転移動することにより、微細な凹凸形状付ガラス基板を成形する成形ロール3と、成形ロール3の両端を絶縁体で支持する支持体9と、成形ロール3に電圧を印加する接触電極3Aと、積載ステージ5と成形ロール3との間に電圧を印加する電圧印加手段21Aとを有する。【選択図】図1