VAPOR DEPOSITION MASK MATERIAL, VAPOR DEPOSITION MASK MATERIAL FIXING METHOD, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition mask material capable of: obtaining a vapor deposition mask capable of satisfying both a high definition and a weight saving even in the case where the vapor deposition mask is large-sized; and being firmly fixed to the metal frame; and a fixing me...

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Hauptverfasser: OBATA KATSUYA, TAKEDA TOSHIHIKO, KENMORI HIDESUKE
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition mask material capable of: obtaining a vapor deposition mask capable of satisfying both a high definition and a weight saving even in the case where the vapor deposition mask is large-sized; and being firmly fixed to the metal frame; and a fixing method capable of fixing that vapor deposition mask to the metal frame.SOLUTION: A vapor deposition mask to be welded at a predetermined portion to a metal frame comprises: a metal mask formed with a slit; and a resin layer formed over said metal mask. Said resin layer does not exist on the surface of said metal mask corresponding to said predetermined portion.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】大型化した場合でも高精細化と軽量化の双方を満たすことができる蒸着マスクを得ることができ、かつ、金属フレームと強固に固定することができる蒸着マスク材、及びこの蒸着マスク材を金属フレームに強固に固定することができる固定方法を提供すること。【解決手段】金属フレームと所定箇所において溶接される蒸着マスク材であって、前記蒸着マスク材は、スリットが設けられた金属マスクと、当該金属マスク上に設けられた樹脂層とを含み、前記所定箇所に対応する前記金属マスクの表面には、前記樹脂層が存在していない。【選択図】図1