TANTALUM POWDER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means for increasing characteristics required for tantalum powder, particularly, specific surface area and purity.SOLUTION: A method of forming tantalum powder and other valve metal powder are described. The method includes high impact milling of raw material powder...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: WANG DUAN-FAN
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means for increasing characteristics required for tantalum powder, particularly, specific surface area and purity.SOLUTION: A method of forming tantalum powder and other valve metal powder are described. The method includes high impact milling of raw material powder in a fluid medium and optionally a milling medium using a high energy mill. The method of the present invention can reduce DC leakage of the valve metal powder and/or increase capacitance capabilities when formed into capacitor anodes. The method of the present invention further reduces milling time required to form high surface area valve metal powder and reduces contaminant content in the valve metal powder. The method is well-suited for forming metal flakes, such as tantalum or niobium flakes, of high purity.SELECTED DRAWING: None 【課題】タンタル粉末の要求特性、特に比表面積や純度を増加させる手段を提供する。【解決手段】タンタル粉末および他のバルブ金属粉末の生成法が記載されている。その方法は、流体媒体中で、任意には粉砕媒体により、高エネルギー粉砕機を用いて原料粉末を高衝撃粉砕することを含む。本発明方法は、キャパシターアノードに形成されるとき、バルブ金属粉末のDC漏れを低減し、および/またはキャパシタンス能力を増加させることができる。さらに、本発明の方法は高表面積バルブ金属粉末を生成するのに必要な粉砕時間を減少させ、バルブ金属における混入物含量を減少させる。その方法は、高純度のタンタルもしくは二オブフレークのような金属フレークを生成するのに好適である。【選択図】なし