METHOD AND SYSTEM FOR CONVERGENT POLISHING

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the following problem: full aperture lap polishing still requires highly skilled opticians using artisan techniques; this type of polishing typically requires multiple iterative cycles involving polishing, measuring, and adjusting parameters to converge to the desired surface figure (i.e. flatness or conformance to a specified radius).SOLUTION: A polishing system 1000 for polishing an optical element 1012 includes a polishing pad 1010 having a radial dimension and a septum 1014 disposed on the polishing pad 1010. The septum 1014 is configured to partially surround the optical element 1012. The optical element 1012 contacts the polishing pad 1010 over a range of the radial dimension and a pad wear rate of the polishing pad 1010 is substantially constant, as a function of radial dimension, over the range of the radial dimension.SELECTED DRAWING: Figure 10 【課題】フルアパーチャラップ研磨は、今も職人技術を使いこなす熟練した光学技術者が必要である。このタイプの研磨は、通常、研磨、測定、および所望の表面形状に収束させるためのパラメータ（すなわち、平面度または特定の半径への適合性）の調整を含む、複数回の反復サイクルを必要とする。【解決手段】光学素子１０１２を研磨するための研磨システム１０００は、半径方向寸法を有する研磨パッド１０１０と、研磨パッド１０１０上に配置されるセプタム１０１４とを含む。セプタム１０１４は、光学素子１０１２を部分的に包囲するように構成される。光学素子１０１２は、半径方向寸法の範囲にわたって研磨パッド１０１０と接触し、研磨パッド１０１０のパッド摩耗率は、半径方向寸法の範囲にわたって、半径方向寸法の関数としてほぼ一定である。【選択図】図１０