DEPOSITION MASK DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means that prevents a deposition material from adhering to each guide pin of a deposition mask device.SOLUTION: The deposition mask device 100 includes: first guide pins 11, 12 and second guide pins 13, 14 serving as multiple pins; a holding substrate 10 for holding...

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1. Verfasser: KARAKI TOSHIHIKO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means that prevents a deposition material from adhering to each guide pin of a deposition mask device.SOLUTION: The deposition mask device 100 includes: first guide pins 11, 12 and second guide pins 13, 14 serving as multiple pins; a holding substrate 10 for holding a substrate to be deposited 30 using at least the first guide pins 11, 12 and the second guide pins 13, 14; a mask plate 20 provided with a first recess part 21, a second recess part 22, a third recess part 23 and a forth recess part 24 serving as recess parts for storing tips of the first guide pins 11, 12 and the second guide pins 13, 14 and a mask pattern 27.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】成膜マスク装置の各ガイドピンに成膜材料が付着しないような手段を得る。【解決手段】成膜マスク装置100は、複数のピンとしての第1のガイドピン11,12および第2のガイドピン13,14を備え、少なくとも第1のガイドピン11,12および第2のガイドピン13,14を用いて被成膜基板30を保持する保持基板10と、第1のガイドピン11,12および第2のガイドピン13,14の先端部を収容する凹み部としての第1の凹み部21、第2の凹み部22、第3の凹み部23、および第4の凹み部24、およびマスクパターン27が設けられているマスク板20とを備えている。【選択図】図1