ETCHING DEVICE AND ETCHING METHOD

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etching device capable of suppressing variations in etching depth.SOLUTION: An etching device 100 comprises: a movable nozzle 20 and a fixed nozzle 10 for spraying a liquid on an object; a nozzle drive device 30 for changing at least one of the position and posture of the movable nozzle 20; supply means including a first etchant supply device 40 which can individually supply an etchant to the fixed nozzle 10 and a second etchant supply device 50 which can individually supply an etchant to the movable nozzle 20; an imaging element 60 for imaging the object sprayed with the etchant; a data analysis device 65 which analyzes the progress of etching in the object on the basis of the pickup image data obtained by the imaging element 60; and a control device 70 which controls the nozzle drive device 30 and the supply means. The control device 70 can control the nozzle drive device 30 on the basis of the analysis results of the data analysis device 65.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】 エッチング深さのばらつきを抑制できるエッチング装置を提供する。【解決手段】 エッチング装置１００は、対象物に液体を散布するための、可動ノズル２０及び固定ノズル１０と、可動ノズル２０の位置及び姿勢の少なくとも一方を変更するためのノズル駆動装置３０と、可動ノズル２０及び固定ノズル１０にエッチング液を個別に供給可能な、第１及び第２エッチング液供給装置４０、５０を含む供給手段と、エッチング液が散布されている対象物を撮像する撮像素子６０と、撮像素子６０で得られた撮像画像データに基づいて対象物におけるエッチングの進行状況を解析するデータ解析装置６５と、ノズル駆動装置３０及び供給手段を制御する制御装置７０と、を備え、該制御装置７０は、データ解析装置６５での解析結果に基づいてノズル駆動装置３０を制御可能である。【選択図】 図１