PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition with high sensitivity which can achieve elastic recovery properties, adhesion to glass substrate, and high resolution.SOLUTION: A photosensitive resin composition comprises hydrophilic resin (A) having a radical-polymerizable organi...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition with high sensitivity which can achieve elastic recovery properties, adhesion to glass substrate, and high resolution.SOLUTION: A photosensitive resin composition comprises hydrophilic resin (A) having a radical-polymerizable organic group, polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), and benzophenone photopolymerization initiator (C) having am absorption maximum wavelength at least in the range of 300-400 nm as essential components.SELECTED DRAWING: None
【課題】 本発明は、弾性回復特性とガラス基板との密着性、および高解像性を達成できる高感度な感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、および少なくとも300〜400nmの範囲内に吸収極大波長を有するベンゾフェノン型光重合開始剤(C)を必須成分として含有するすることを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。【選択図】 なし |
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