SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate and a manufacturing method of the same.SOLUTION: In a manufacturing method of a substrate with a bump, by controlling a thickness of a nickel layer 150 on a copper layer 140 after at least one copper layer 140 is formed on a semiconductor substrate 110, h...

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Hauptverfasser: WU FEI JAIN, LEE CHUN-TE, LIAO TSANG-SHENG, HUANG CHING-YI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate and a manufacturing method of the same.SOLUTION: In a manufacturing method of a substrate with a bump, by controlling a thickness of a nickel layer 150 on a copper layer 140 after at least one copper layer 140 is formed on a semiconductor substrate 110, hardness of the bump composed of the copper layer 140 and the nickel layer 150 meets a required standard after an anneal process thereby to prevent burst of a glass substrate 200 when the substrate having the bump is associated with the glass substrate 200 by flip chip.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明のバンプを有する基板の製造方法は、半導体基板110上に少なくとも1つの銅層140が形成された後、銅層140上に形成されるニッケル層150の厚さを制御することで、銅層140及びニッケル層150で構成されるバンプはアニール(Anneal)工程後に、バンプの硬度が要求された基準に達し、バンプを有する基板がフリップチップ(Flip Chip)によりガラス基板200に結合される際に、ガラス基板200が破裂するのを防ぐ。【選択図】 図2