ETCHANT COMPOSITION AND ETCHING METHOD

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etchant composition which makes possible to collectively etch, of a metal multilayer film including a Ti-containing layer made of Ti or an alloy including Ti as a primary component, an Al-containing layer made of Al or an alloy including Al as a primary component, and an In-containing metal oxide layer, the Ti-containing layer and the Al-containing layer, and to reduce the damage to the In-containing metal oxide layer in etching; and an etching method using the etchant composition.SOLUTION: An etchant composition of the present invention is an etchant composition for collectively etching, of a metal multilayer film including a Ti-containing layer made of Ti or an alloy including Ti as a primary component, an Al-containing layer made of Al or an alloy including Al as a primary component, and an In-containing metal oxide layer, the Ti-containing layer and the Al-containing layer. The etchant composition comprises one or more selected from a group consisting of a fluorine compound, an oxo acid of phosphorus, a metal salt, an organic solvent, an ammonium salt, and a quaternary ammonium compound. The etchant composition is acid.SELECTED DRAWING: None 【課題】ＴｉまたはＴｉを主成分とする合金からなるＴｉ含有層と、ＡｌまたはＡｌを主成分とする合金からなるＡｌ含有層と、Ｉｎを含む金属酸化物層とを含む金属積層膜のＴｉ含有層とＡｌ含有層とを一括エッチングすることが可能であり、かつ、エッチング中におけるＩｎを含む金属酸化物層の損傷を低減させることが可能なエッチング液組成物およびこれを用いたエッチング方法を提供する。【解決手段】本発明のエッチング液組成物は、ＴｉまたはＴｉを主成分とする合金からなるＴｉ含有層と、ＡｌまたはＡｌを主成分とする合金からなるＡｌ含有層と、Ｉｎを含む金属酸化物層とを含む金属積層膜のＴｉ含有層とＡｌ含有層とを一括エッチングするためのエッチング液組成物であって、フッ素化合物と、リンのオキソ酸、金属塩、有機溶剤、アンモニウム塩および第四級アンモニウム化合物からなる群から選択される１種または２種以上とを含み、酸性である。【選択図】なし