SYSTEM AND METHOD FOR FORMING BONDED SUBSTRATES

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and method for forming bonded substrates.SOLUTION: An apparatus for bonding two substrates 152, 172 includes a first roller 104; a second roller 108 that forms a nip with the first roller 104; a substrate transport 100 configured to move the first substrate...

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Hauptverfasser: WEI HON, ZHOU JING, MANDAKINI KANUNGO, NANCY Y JIA, JAMES R BEACHNER, MCCONVILLE PAUL J
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and method for forming bonded substrates.SOLUTION: An apparatus for bonding two substrates 152, 172 includes a first roller 104; a second roller 108 that forms a nip with the first roller 104; a substrate transport 100 configured to move the first substrate 152 and the second substrate 172 through the nip simultaneously; and a controller 50. The controller 50 operates the substrate transport 100 to move the first substrate 152 and the second substrate 172 through the nip simultaneously, with a pattern of a hydrophobic material on a first side of the first substrate 152 engaging a first side of the second substrate 172. The first substrate 152 engages the first roller 104, which has a higher temperature than the second roller 108, and the hydrophobic material penetrates the first substrate 104 and the second substrate 108 to bond the substrates together. 【課題】接合基板を形成するためのシステムおよび方法を提供する。【解決手段】2つの基板152,172を接合するための装置は、第1のローラ104と、第1のローラ104とともにニップを形成する第2のローラ108と、第1の基板152および第2の基板172を、ニップを通じて同時に移動させるように構成されている基板搬送装置100と、コントローラ50とを含む。コントローラ50は、第1の基板152の第1の面上の疎水性材料のパターンが第2の基板172の第1の面に係合した状態で、第1の基板152および第2の基板172を、ニップを通じて同時に移動させるように、基板搬送装置100を操作する。第1の基板152は、第2のローラ108よりも高い温度を有する第1のローラ104に係合し、疎水性材料は第1の基板104および第2の基板108に浸透して、それらの基板をともに接合する。【選択図】図1