CELL CULTURE SUBSTRATE
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means capable of culturing cells in the same system while the size of a cell aggregate to be created is controlled, and for selectively recovering ones having a specific size after culture.SOLUTION: There is provided a cell culture substrate having a first cell cultu...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | PROBLEM TO BE SOLVED: To provide means capable of culturing cells in the same system while the size of a cell aggregate to be created is controlled, and for selectively recovering ones having a specific size after culture.SOLUTION: There is provided a cell culture substrate having a first cell culture chamber and a second cell culture chamber, in which the first cell culture chamber and the second cell culture chamber are adjacent to each other and partitioned by a partition wall having through holes, a first pattern of a cell adhesion region and a cell non-adhesion region surrounding the region is formed on a bottom part of the first cell culture chamber, a second pattern of a cell adhesion region and a cell non-adhesion region surrounding the region is formed on a bottom part of the second cell culture chamber, a maximum length of a surface defined by an outer edge of the through holes of the partition wall is less than 1/2 a minimum length of a surface defined by an outer edge of the cell adhesion region in the first pattern and the second pattern, an area of the cell adhesion region in the first pattern is smaller than the area of the cell adhesion region in the second pattern, or the first pattern shape is different from the second pattern shape.
【課題】本発明は、生成する細胞集合体のサイズを制御して同一系内で培養できるとともに、培養後に特定のサイズを有するものを選択的に回収するための手段を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、第1の細胞培養室と第2の細胞培養室を有する細胞培養基材であって、第1の細胞培養室と第2の細胞培養室は、互いに隣接し、通孔を有する隔壁によって隔てられており、第1の細胞培養室の底部に、細胞接着領域とそれを囲む細胞非接着領域の第1のパターンが形成され、第2の細胞培養室の底部に、細胞接着領域とそれを囲む細胞非接着領域の第2のパターンが形成され、隔壁の通孔の外縁によって画定される面の最大長さは、第1のパターンおよび第2のパターンにおける細胞接着領域の外縁によって画定される面の最小長さの1/2未満であり、第1のパターンにおける細胞接着領域の面積が、第2のパターンにおける細胞接着領域の面積より小さい、または第1のパターン形状が、第2のパターン形状と異なる前記細胞培養基材に関する。【選択図】図1 |
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