VAPORIZER, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD

PROBLEM TO BE SOLVED: To keep vaporization conditions constant even if a liquid level falls as a liquid raw material vaporizes.SOLUTION: There is provided a vaporizer which produces a processing gas by vaporizing a liquid raw material, and the vaporizer includes a vaporization container which contains the liquid raw material, and a partition wall which is arranged movably in a vertical direction above the liquid level of the liquid raw material contained in the vaporization container and partitions off the space in the vaporization container above the liquid level so as to form a vaporization space for the liquid raw material with the liquid level. The partition wall moves following up the liquid level falling as the liquid raw material vaporizes so as to keep the volume in the vaporization space constant. 【課題】液体原料が気化することで液面が降下しても、気化条件を一定に維持する。【解決手段】液体原料を気化させて処理ガスを生成する気化器であって、液体原料を収容する気化容器と、気化容器内に収容される液体原料の液面の上方に上下移動自在に配置され、液面よりも上方の気化容器内の空間を区画することで液面との間に液体原料の気化空間を形成する隔壁と、を備え、液体原料が気化することで降下した液面に追従するように隔壁が移動することで、気化空間内の体積が一定に維持されるように構成されている。【選択図】図１