SEMICONDUCTOR DEVICE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which ensures an original current detection function while inhibiting the occurrence of surge in a sense current.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a surface p layer, an nlayer, a p type channel diffusion layer 115, an in-base diffusio...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: YAMAUCHI KUMIKO, KOBORI TOSHIMITSU
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which ensures an original current detection function while inhibiting the occurrence of surge in a sense current.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a surface p layer, an nlayer, a p type channel diffusion layer 115, an in-base diffusion layer (p type emitter layer) 116, interlayer insulation film (insulation film layer) and emitter electrodes 125, 127, which are sequentially laminated; and a plurality of contact holes 130 which pierce gaps between the emitter electrodes 125, 127 and the in-base diffusion layer 116. The semiconductor device comprises a functional region which is isolated into a main region 10M used for conduction of power and a sense region 10S for detecting an amount of a current flowing into the semiconductor device. The p type channel diffusion layer 115 and the in-base diffusion layer 116 are connected with the emitter electrode 125 on the main region side between the emitter electrodes 125, 127 via the contact hole 130 to form a hole capture region P and capture a Hall current supplied to the sense region 10S to the main region 10M. 【課題】センス電流におけるサージの発生を抑制しつつ、本来の電流検知機能を確保した半導体装置を提供する。【解決手段】表面p層、n−層、p型チャネル拡散層115、インベース拡散層(p型エミッタ層)116、層間絶縁膜(絶縁膜層)、エミッタ電極125、127が順序積層されるとともに、エミッタ電極125、127とインベース拡散層116との間を貫通するコンタクトホール130が複数設けられる。半導体装置の機能領域が、電力の通電に用いられるメイン領域10Mと、半導体装置に流入する電流量を検出するセンス領域10Sとに区分けされる。p型チャネル拡散層115およびインベース拡散層116は、エミッタ電極125、127のうちメイン領域側のエミッタ電極125とコンタクトホール130を介して接続されてホール取り込み領域Pを形成し、センス領域10Sに供給されたホール電流をメイン領域10Mに取り込む。【選択図】図6