SEPARATION SYSTEM

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve throughput.SOLUTION: A separation system according to an embodiment comprises a separation device, a plurality of first cleaning devices, a turnover device, a second cleaning device and first through third carrier devices. The separation device separates a multilayer substrate to a first substrate and a second substrate. The first cleaning device cleans a joint surface of the first substrate. The turnover device inverts a surface and a rear face of the first substrate. The second cleaning device cleans a non-joint surface of the first substrate. The first carrier device ejects the first substrate from the separation device and carries the first substrate to the first cleaning device by rotating movement and sliding movement. The second carrier device ejects the first substrate from the first cleaning device and carries the first substrate to the turnover device by rotating movement and sliding movement. The third carrier device ejects the first substrate from the turnover device and carries the first substrate to the second cleaning device by rotating movement and sliding movement. Each delivery position of the first substrate, which is provided with each of the plurality of first cleaning devices is arranged in a region where an operation range of the first carrier device and an operation range of the second carrier device overlap each other. 【課題】スループットの向上を図ること。【解決手段】実施形態に係る剥離システムは、剥離装置と複数の第１洗浄装置と反転装置と第２洗浄装置と第１〜第３搬送装置とを備える。剥離装置は重合基板を第１基板と第２基板とに剥離する。第１洗浄装置は第１基板の接合面を洗浄する。反転装置は第１基板の表裏を反転する。第２洗浄装置は第１基板の非接合面を洗浄する。第１搬送装置は旋回動作および伸縮動作により、第１基板を剥離装置から取り出して第１洗浄装置へ搬送する。第２搬送装置は、旋回動作および伸縮動作により、第１基板を第１洗浄装置から取り出して反転装置へ搬送する。第３搬送装置は、旋回動作および伸縮動作により、第１基板を反転装置から取り出して第２洗浄装置へ搬送する。そして、第１搬送装置の動作範囲と第２搬送装置の動作範囲とが重複する領域に、複数の第１洗浄装置が有する第１基板の受渡位置が配置される。【選択図】図４