THIN FILM DEPOSITION SYSTEM

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film deposition system capable of suppressing degradation of film quality of a thin film and stably forming the thin film to a longer direction of a belt base material.SOLUTION: Electrode units are arranged facing each other on a surface of a transported belt base material, and the thin film is formed on the belt base material by plasma treatment of material gas provided between a surface of the belt material and the electrode units. The electrode unit includes: an electrode part for forming plasma atmosphere; and an ion trap part. The ion trap part includes: a trap belt which runs between the electrode part and the belt base material; and an upper roll and a lower roll for supporting the trap belt so as to make the trap belt face the electrode part and the belt base material. When arrangement positions of the upper roll and the lower roll are different in a vertical direction, a running direction of the trap belt is set from an upper side to lower side in the vertical direction. 【課題】薄膜の膜質の低下を抑えることができ、帯状基材の長手方向に亘って安定して薄膜を形成することができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】搬送される帯状基材の表面に電極ユニットを対向させて配置し、帯状基材の表面と電極ユニットとの間に供給される原料ガスがプラズマ処理されることにより、帯状基材表面上に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、電極ユニットは、プラズマ雰囲気を形成する電極部と、イオントラップ部とを有しており、イオントラップ部は、電極部と帯状基材との間を走行するように繰り出されるトラップベルトと、このトラップベルトが電極部と帯状基材とに対向するように走行中のトラップベルトを支持する上側ロール及び下側ロールとを備えており、上側ロール及び下側ロールの配置位置が鉛直方向において差がある場合、トラップベルトの走行方向は、鉛直方向上側から鉛直方向下側に設定されている構成とする。【選択図】図２