METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a thin film transistor capable of preventing an arc formation during crystallization of an amorphous silicon layer with conducting heat of a metal layer.SOLUTION: Provided is a method of manufacturing a thin film transistor comprising: a sub...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: AN SHISHU, KIM BEONG-JU, KIN SEITETSU
Format: Patent
Sprache:eng
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