METODO PER FORMARE UNA CONFIGURAZIONE FINE SU UN ELEMENTO SEMICONDUTTORE AVENTE UN GRADINO

Viene descritto un metodo per formare una configurazione precisa su un elemento semi-conduttore che ha un gradino. Il metodo comprende le fasi di stendere un materiale fotosensibile sulla superficie del semiconduttore, pre-esporre ad ultravioletti il materiale fotosensibile esistente nella zona non a gradino che viene formata sulla superficie del semiconduttore diversa dalla zona a gradino, attraverso una prima fotomaschera, esporre l'intero materiale fotosensibile attraverso una seconda fotomaschera con la configurazione desiderata ad ultravioletti dopo aver rimosso la prima fotomaschera, e sviluppare e rimuovere soltanto il materiale fotosensibile che è stato esposto agli ultravioletti nelle fasi di pre-esposizione ed esposizione. A method for forming an accurate pattern on a semiconductor element that has a step. The method includes the steps of coating a photosensitive material on the surface of the semiconductor, pre-exposing to ultraviolet rays the photosensitive material exisiting in the non-step area which is formed on the surface of the semiconductor other than step area, through a first photomask, exposing the entire photosensitive material through a second photomask with a desired pattern to ultraviolet after removing the first photomask, and developing and removing only photosensitive material that is exposed to ultraviolet in the pre-exposing and exposing steps.