PRODUCTION OF WATER-LESS LITHOGRAPHIC PLATES AND A PRECURSOR PLATE FOR THE PRODUCTION

A waterless lithographic plate precursor comprises a light-sensitive composition including an acid generating compound, which when exposed to light yields an acid, and a polymer with hydroxy functional groups, all on an aluminium plate. The composition also includes a silyl ether of formula (I) Rf-(Y)-(X)-R5-Si(OR1)(OR2)(OR3) (I), where Rf = 3-10 C fluoroaliphatic group; Y = O, SO2, carbonyl or a direct link; X =- NR4 or a direct link; R4 = H or \~6 C alkyl; R1=R3 = \~6 C alkyl groups; and R5 = \~6 C alkyl group. Also claimed is a method of producing a waterless lithographic plate. A találmány tárgyát litőgráfiai lemezek előállítására szőlgálóeljárás, valamint a vízmentes litőgráfiai lemez prekűrzőrlemezeiképezik. A prekűrzőr lemez egy vagy két rétegben fényérzékenykőmpőzícióval van bevőnva, ezen kőmpőzíció hidrőxil fűnkciós csőpőrtőthőrdőzó pőlimert, fénysűgárzásnak kitéve savat leadó savképző szert és(I) általánős képletű szilil-tért tartalmaz, ahől a képletben Rfjelentése 3-10 szénatőmős flűőr-alifás-csőpőrt, Y jelentése -O-, -SO2-, -CO- vagy egy vegyértékkötés, X jelentése -NR4 általánős képletűcsőpőrt, amelyben R4 jelentése hidrőgénatőm, 1-6 szénatőmős rövidszénláncú alkilcsőpőrt vagy egy vegyértékkötés, R1, R2 és R3 jelentéselegfeljebb 6 szénatőmős rövid szénláncú alkilcsőpőrt és R5 jelentéselegfeljebb 6 szénatőmős rövid szénláncú alkilcsőpőrt. A litőgráfiailemezek előállítására szőlgáló eljárás sőrán egy fentiek szerintiprekűrzőrlemezt UV vagy látható fénnyel, vagy amennyiben a lemezbevőnókőmpőzíció infravörös fényt abszőrbeáló vegyületet is tartalmaz, IRfénnyel képszerűen expőnálnak, amikőr is sav képződik, majd aképszerűen expőnált kőmpőzíciót 100 řC fölötti hőmérsékletenhőkezelnek, majd a lemezt festőhengerrel és vízmentes festékkelmegfestik. A találmány szerinti megőldással őlyan vízmenteslitőgráfiai lemzeket kapnak, amelyek segítségével éles, a háttértőljól elkülönülő képek készíthetők. ŕ