A method for the anisotropic etching of metal films in the fabrication of interconnects

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	DONALD S GARDNER, XIAOUN MU, DAVID B FRASER
Format:	Patent
Sprache:	eng
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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