VACUUM DEPOSITION PROCESS
PCT No. PCT/GB88/01126 Sec. 371 Date Sep. 5, 1989 Sec. 102(e) Date Sep. 5, 1989 PCT Filed Dec. 16, 1988 PCT Pub. No. WO89/05872 PCT Pub. Date Jun. 29, 1989.In order to deposit films of materials, such as polysilicon or silicon dioxide, on major surfaces of substrates by a low-pressure chemical vapor...
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Format: | Patent |
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