Procédé de dépôt de carbone sur un substrat

L'invention concerne un procédé de dépôt d'un matériau à base de carbone depuis une cible sur un substrat métallique, par pulvérisation cathodique, en présence d'une assistance ionique. Selon l'invention, on ajuste le rapport entre le flux d'ions dirigé vers le substrat et le flux d'atomes neutres de carbone dirigé vers le substrat entre 1,7 et 3,5, et on applique une tension de polarisation comprise entre -35 V et -100 V au substrat. Figure pour l'abrégé : Fig. 3 The invention relates to a method for depositing a carbon-based material from a target onto a metal substrate, by ion-assisted cathode sputtering.According to the invention, the ratio between the flow of ions that is directed toward the substrate and the flow of neutral carbon atoms that is directed toward the substrate is adjusted to between 1.7 and 3.5; and a bias voltage of between −35 V and −100 V is applied to the substrate.