Dispositif pour le dépôt chimique en phase vapeur

Dispositif pour le dépôt chimique en phase vapeur L'invention concerne un dispositif (100) pour le dépôt chimique en phase vapeur en lit fluidisé comprenant : - un réacteur comprenant une zone de traitement (40) dans laquelle le dépôt chimique en phase vapeur en lit fluidisé est destiné à être réalisé à partir d'au moins un premier (22) et d'un deuxième (14) gaz réactifs et un diffuseur (31) sous la zone de traitement délimitant le réacteur (12), - un système de chauffage configuré pour chauffer au moins la zone de traitement, le dispositif étant caractérisé en ce qu'il comprend un premier canal d'introduction (20) du premier gaz réactif et un deuxième canal d'introduction (10) du deuxième gaz réactif, distinct du premier canal, et débouchant sous le diffuseur, et en ce que le premier canal d'introduction est apte à être déplacé par rapport au système de chauffage (50). Figure pour l'abrégé : Fig. 1 A device for fluidised bed chemical vapour deposition, includes a reactor including a treatment zone in which the fluidised bed chemical vapour deposition is intended to be carried out using at least a first and a second reactive gas and a diffuser under the treatment zone delimiting the reactor, and a heating system configured to heat at least the treatment zone. The device includes a first channel for introducing the first reactive gas and a second channel for introducing the second reactive gas, which second channel is separate from the first channel and opens out under the diffuser, and wherein the first introduction channel is capable of being moved with respect to the heating system.