PROCEDE DE REJUVENATION DE MASSE DE CAPTATION DE SILICIUM
La présente invention concerne : un procédé de réjuvénation d'une masse de captation de composés silicés chargée en composés silicés, dans lequel la masse de captation est mise en contact avec un flux gazeux à une température comprise entre 100 et 1000°C ; une masse de captation réjuvénée compr...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | La présente invention concerne : un procédé de réjuvénation d'une masse de captation de composés silicés chargée en composés silicés, dans lequel la masse de captation est mise en contact avec un flux gazeux à une température comprise entre 100 et 1000°C ; une masse de captation réjuvénée comprenant un support poreux à base d'alumine et possédant des sites acides de Lewis et des groupements silanols ; et un procédé de captation de composés silicés dans une charge gazeuse ou liquide, comprenant la mise en contact de la charge avec la masse de captation réjuvénée. |
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