PROCEDE DE DEPOT LOCALISE D'UN MATERIAU SUR UN ELEMENT

Procédé de dépôt localisé d'un matériau sur un élément (110), comprenant : - dépôt d'une portion (108) du matériau sur une partie d'une surface (101) d'un support (102) ; - positionnement d'une partie (112) de l'élément contre la portion du matériau ; - traitement therm...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: DAVID, Nadine, CHARBONNIER, Jean, FRANIATTE, Rémi
Format: Patent
Sprache:fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Procédé de dépôt localisé d'un matériau sur un élément (110), comprenant : - dépôt d'une portion (108) du matériau sur une partie d'une surface (101) d'un support (102) ; - positionnement d'une partie (112) de l'élément contre la portion du matériau ; - traitement thermique et/ou chimique de la portion de matériau augmentant, à la fin du traitement, la force d'adhérence du matériau contre la partie de l'élément, les matériaux de la partie de l'élément et de la partie de la surface du support étant choisis tels que l'adhérence du matériau contre la partie de l'élément soit, à la fin du traitement, supérieure à celle du matériau contre la partie de la surface du support ; - séparation de l'élément et du support au niveau de l'interface entre le matériau et la partie de la surface du support, le matériau restant solidaire de la partie de l'élément. Figure pour l'abrégé : Figure 6. A method is provided for localised deposition of a material over an element, including deposition of a portion of the material over a portion of a surface of a support; positioning of a portion of the element against the portion of the material; annealing of the material portion increasing, at the end of the treatment, the adhesion force of the material against the portion of the element, the materials of the portion of the element and of the portion of the surface of the support being selected such that the adhesion of the material against the portion of the element is, at the end of the annealing, higher than that of the material against the portion of the surface of the support; and separation of the element and the support at the interface between the material and the portion of the surface of the support, the material remaining secured to the portion of the element.