Dispositif à vide et procédé de surveillance d'un dépôt de sous-produits de réaction

Un appareil à vide (5) comprenant une enceinte à vide (17) ayant une paroi métallique avec une surface interne à placer sous vide comprend en outre au moins un dispositif à ondes acoustiques guidées (18) et une unité de commande (19) configurée pour commander le système piézo-électrique transducteurs électriques (20, 21) pour surveiller une variation d'au moins un paramètre d'une onde acoustique de surface se propageant entre lesdits transducteurs piézo-électriques (20, 21) correspondant à un dépôt de sous-produits de réaction (23) sur la surface intérieure du mur métallique. Figure d'abrégé: Figure 1 A vacuum apparatus (5) comprising a vacuum enclosure (17) having a circumferential surface and an inner surface to be placed under vacuum and further comprises at least one guided surface acoustic waves device (18) and a control unit (19) configured to control the piezo-electric transducers (20, 21) to monitor a variation of at least one parameter of a surface acoustic wave propagating along the circumferential surface of the vacuum enclosure (17) to detect by-products deposition (23) on the circumferential surface and/or to determine the properties of the by-product deposition (23).