Procédé de réalisation d'un composant micromécanique pour une installation d'interféromètre et composant obtenu

Titre : Procédé de réalisation d'un composant micromécanique pour une installation d'interféromètre et composant obtenu Procédé consistant à fournir (S1) un support (T1) et y placer (S1a) une couche sacrificielle (O1) avec une résistance à la gravure sur le support (T1) et appliquer (S2) u...

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Hauptverfasser:	Kraemmer, Christoph Daniel, Huber, Christian, Roedel, Reinhold, Stein, Benedikt, Buck, Thomas
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	COLORIMETRY MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS PERFORMING OPERATIONS PHYSICS PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS RADIATION PYROMETRY TESTING TRANSPORTING
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Zusammenfassung:	Titre : Procédé de réalisation d'un composant micromécanique pour une installation d'interféromètre et composant obtenu Procédé consistant à fournir (S1) un support (T1) et y placer (S1a) une couche sacrificielle (O1) avec une résistance à la gravure sur le support (T1) et appliquer (S2) une couche intermédiaire (Z1), appliquer (S3) une couche sacrificielle (O2) qui a une autre résistance à la gravure sur la couche intermédiaire (Z1) ; structurer (S4) la couche sacrificielle (O2), et y modifier la résistance à la gravure, appliquer (S5) une couche intermédiaire (Z2) sur la couche sacrificielle (O2), pour que la couche (Z2) soit parallèle sur la première couche (Z1), et enlever partiellement (S6) la première et/ou la seconde couche sacrificielle (O1, O2) au-dessus ou dans la zone structurée (B2). Figure 1