PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILTRE MULTI-SPECTRAL ET FILTRE MULTI-SPECTRAL AINSI FABRIQUE

La présente invention concerne un procédé pour la fabrication d'un filtre multi-spectral comprenant une pluralité d'éléments filtrants, chaque élément filtrant étant adapté pour transmettre une bande spectrale de radiation électromagnétique parmi une pluralité de bandes spectrales, caractérisé en ce que le procédé comprend les étapes suivantes : - dépôt d'un premier réflecteur commun pour la pluralité d'éléments filtrants sur un substrat, - dépôt, sur le premier réflecteur, d'un premier empilement de cavité comprenant au moins N couches de cavité et N-1 couches d'arrêt déposées en alternance, la couche supérieure étant une couche de cavité, - gravure sélective d'un nombre M de couches de cavité dans une pluralité de zones correspondant chacune à un élément filtrant, où M varie de 0 à N-1 d'une zone à l'autre, et - gravure sélective des couches d'arrêt situées entre les couches de cavité gravées, et de façon à ce que chaque élément filtrant comprend N-M couches de cavité et N-M-1 couches d'arrêt non gravées, et en ce que les couches de cavité et les couches d'arrêt sont réalisées dans des matériaux différents et optiquement transparents. Figure à publier : Fig. 2 The present invention relates to a method for manufacturing a multi-spectral filter comprising a plurality of filtering elements, each filtering element being adapted to transmit a spectral electromagnetic radiation band from among a plurality of spectral bands, characterised in that the method comprises the following steps: - depositing a first common reflector for the plurality of filtering elements onto a substrate; - depositing, onto the first reflector, a first cavity stack comprising at least N cavity layers and N-1 barrier layers deposited in an alternating manner, the upper layer being a cavity layer; - selectively etching a number M of cavity layers in a plurality of zones each corresponding to a filtering element, where M varies from 0 to N-1 from one zone to the next; and - selectively etching barrier layers located between the etched cavity layers, and so that each filtering element comprises N-M cavity layers and N-M-1 non-etched barrier layers, and in that the cavity layers and the barrier layers are produced from different and optically transparent materials.