Tampon de polissage mécano-chimique et procédé de polissage
Tampon de polissage mécano-chimique et procédé de polissage La présente invention concerne un tampon de polissage mécano-chimique présentant une couche de polissage qui possède un potentiel zêta positif consistant sur la surface entière. Il est également décrit un procédé de polissage mécano-chimiqu...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | fre |
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| Zusammenfassung: | Tampon de polissage mécano-chimique et procédé de polissage La présente invention concerne un tampon de polissage mécano-chimique présentant une couche de polissage qui possède un potentiel zêta positif consistant sur la surface entière. Il est également décrit un procédé de polissage mécano-chimique utilisant le tampon de polissage en association avec une suspension positivement chargée.
The present invention concerns a chemical mechanical polishing pad having a polishing layer that possesses a consistent positive zeta potential across the entire surface. Also disclosed is a chemical mechanical polishing method using the polishing pad together with a positively charged slurry. |
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