PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque ou photo-détecteur à jonction électronique n-PERT ou d'un panneau solaire à base de dispositifs photovoltaïque n-PERT. Selon l'invention, le procédé comprend les étapes suivantes : a) texturation d'...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MAROT, YVES, BLEVIN, THOMAS, FISCHER, GUILLAUME, POULIQUEN, SYLVAIN, DRAHI, ETIENNE
Format: Patent
Sprache:fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator MAROT, YVES
BLEVIN, THOMAS
FISCHER, GUILLAUME
POULIQUEN, SYLVAIN
DRAHI, ETIENNE
description L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque ou photo-détecteur à jonction électronique n-PERT ou d'un panneau solaire à base de dispositifs photovoltaïque n-PERT. Selon l'invention, le procédé comprend les étapes suivantes : a) texturation d'au moins une face d'un substrat (4) de silicium cristallin dopé n pour générer une surface micro-texturée, la surface micro-texturée comprenant des micro-textures ; b) suite à l'étape a), diffusion de bore dans le substrat de silicium cristallin à travers la surface micro-texturée pour générer une couche (3) de silicium dopée, la couche (3) de silicium dopée p formant un émetteur de la jonction électronique ; et c) suite à l'étape b), gravure de la surface micro-texturée pour enlever une épaisseur en surface de la couche (3) de silicium dopée p et pour générer une surface micro-texturée et nano-texturée en surface de la couche (3) de silicium dopée p formant l'émetteur.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_FR3077928B1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>FR3077928B1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_FR3077928B13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZFgfEOTv7OriqgBEbo5OQZ7OjiGe_n4KLuqhQMIzOMA_2DPE000hwMM_xD_M3yfE0TMw1FXBPxQiouviGuLqHOIaGqTgqODl7-cM1uzqAxQL8vcDK_XTDXANClFwDaGKcTwMrGmJOcWpvFCam0HBzTXE2UM3tSA_PrW4IDE5NS-1JN4tyNjA3NzSyMLJ0JgIJQCRVEmm</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE</title><source>esp@cenet</source><creator>MAROT, YVES ; BLEVIN, THOMAS ; FISCHER, GUILLAUME ; POULIQUEN, SYLVAIN ; DRAHI, ETIENNE</creator><creatorcontrib>MAROT, YVES ; BLEVIN, THOMAS ; FISCHER, GUILLAUME ; POULIQUEN, SYLVAIN ; DRAHI, ETIENNE</creatorcontrib><description>L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque ou photo-détecteur à jonction électronique n-PERT ou d'un panneau solaire à base de dispositifs photovoltaïque n-PERT. Selon l'invention, le procédé comprend les étapes suivantes : a) texturation d'au moins une face d'un substrat (4) de silicium cristallin dopé n pour générer une surface micro-texturée, la surface micro-texturée comprenant des micro-textures ; b) suite à l'étape a), diffusion de bore dans le substrat de silicium cristallin à travers la surface micro-texturée pour générer une couche (3) de silicium dopée, la couche (3) de silicium dopée p formant un émetteur de la jonction électronique ; et c) suite à l'étape b), gravure de la surface micro-texturée pour enlever une épaisseur en surface de la couche (3) de silicium dopée p et pour générer une surface micro-texturée et nano-texturée en surface de la couche (3) de silicium dopée p formant l'émetteur.</description><language>fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200320&amp;DB=EPODOC&amp;CC=FR&amp;NR=3077928B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76419</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20200320&amp;DB=EPODOC&amp;CC=FR&amp;NR=3077928B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>MAROT, YVES</creatorcontrib><creatorcontrib>BLEVIN, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>FISCHER, GUILLAUME</creatorcontrib><creatorcontrib>POULIQUEN, SYLVAIN</creatorcontrib><creatorcontrib>DRAHI, ETIENNE</creatorcontrib><title>PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE</title><description>L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque ou photo-détecteur à jonction électronique n-PERT ou d'un panneau solaire à base de dispositifs photovoltaïque n-PERT. Selon l'invention, le procédé comprend les étapes suivantes : a) texturation d'au moins une face d'un substrat (4) de silicium cristallin dopé n pour générer une surface micro-texturée, la surface micro-texturée comprenant des micro-textures ; b) suite à l'étape a), diffusion de bore dans le substrat de silicium cristallin à travers la surface micro-texturée pour générer une couche (3) de silicium dopée, la couche (3) de silicium dopée p formant un émetteur de la jonction électronique ; et c) suite à l'étape b), gravure de la surface micro-texturée pour enlever une épaisseur en surface de la couche (3) de silicium dopée p et pour générer une surface micro-texturée et nano-texturée en surface de la couche (3) de silicium dopée p formant l'émetteur.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2020</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFgfEOTv7OriqgBEbo5OQZ7OjiGe_n4KLuqhQMIzOMA_2DPE000hwMM_xD_M3yfE0TMw1FXBPxQiouviGuLqHOIaGqTgqODl7-cM1uzqAxQL8vcDK_XTDXANClFwDaGKcTwMrGmJOcWpvFCam0HBzTXE2UM3tSA_PrW4IDE5NS-1JN4tyNjA3NzSyMLJ0JgIJQCRVEmm</recordid><startdate>20200320</startdate><enddate>20200320</enddate><creator>MAROT, YVES</creator><creator>BLEVIN, THOMAS</creator><creator>FISCHER, GUILLAUME</creator><creator>POULIQUEN, SYLVAIN</creator><creator>DRAHI, ETIENNE</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20200320</creationdate><title>PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE</title><author>MAROT, YVES ; BLEVIN, THOMAS ; FISCHER, GUILLAUME ; POULIQUEN, SYLVAIN ; DRAHI, ETIENNE</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_FR3077928B13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>fre</language><creationdate>2020</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>MAROT, YVES</creatorcontrib><creatorcontrib>BLEVIN, THOMAS</creatorcontrib><creatorcontrib>FISCHER, GUILLAUME</creatorcontrib><creatorcontrib>POULIQUEN, SYLVAIN</creatorcontrib><creatorcontrib>DRAHI, ETIENNE</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>MAROT, YVES</au><au>BLEVIN, THOMAS</au><au>FISCHER, GUILLAUME</au><au>POULIQUEN, SYLVAIN</au><au>DRAHI, ETIENNE</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE</title><date>2020-03-20</date><risdate>2020</risdate><abstract>L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif photovoltaïque ou photo-détecteur à jonction électronique n-PERT ou d'un panneau solaire à base de dispositifs photovoltaïque n-PERT. Selon l'invention, le procédé comprend les étapes suivantes : a) texturation d'au moins une face d'un substrat (4) de silicium cristallin dopé n pour générer une surface micro-texturée, la surface micro-texturée comprenant des micro-textures ; b) suite à l'étape a), diffusion de bore dans le substrat de silicium cristallin à travers la surface micro-texturée pour générer une couche (3) de silicium dopée, la couche (3) de silicium dopée p formant un émetteur de la jonction électronique ; et c) suite à l'étape b), gravure de la surface micro-texturée pour enlever une épaisseur en surface de la couche (3) de silicium dopée p et pour générer une surface micro-texturée et nano-texturée en surface de la couche (3) de silicium dopée p formant l'émetteur.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language fre
recordid cdi_epo_espacenet_FR3077928B1
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
title PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE N-PERT ET DISPOSITIF PHOTOVOLTAIQUE OU PHOTO-DETECTEUR A JONCTION ELECTRONIQUE
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-07T17%3A31%3A30IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=MAROT,%20YVES&rft.date=2020-03-20&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EFR3077928B1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true