FENETRES DE DETECTION OPTIQUE DE POINT LIMITE DE POLYURETHANE ALIPHATIQUE ET TAMPONS DE POLISSAGE CMP LES CONTENANT

La présente invention fournit un tampon de polissage mécano-chimique (CMP) pour polir, par exemple, un substrat semi-conducteur, ayant une ou plusieurs fenêtres de détection de point limite (fenêtres) qui à une épaisseur de 2 mm auraient une coupure UV à une longueur d'onde de 325 nm ou inférie...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	ISLAM, MOHAMMAD T, JACOB, GEORGE C, CHIOU, NAN-RONG
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING PERFORMING OPERATIONS POLISHING TOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING TRANSPORTING
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