FENETRES DE DETECTION OPTIQUE DE POINT LIMITE DE POLYURETHANE ALIPHATIQUE ET TAMPONS DE POLISSAGE CMP LES CONTENANT

La présente invention fournit un tampon de polissage mécano-chimique (CMP) pour polir, par exemple, un substrat semi-conducteur, ayant une ou plusieurs fenêtres de détection de point limite (fenêtres) qui à une épaisseur de 2 mm auraient une coupure UV à une longueur d'onde de 325 nm ou inférieure, lesquelles sont le produit d'un mélange réactionnel de (A) de 30 à 56% en masse d'un ou plusieurs diisocyanates ou polyisocyanates cycloaliphatiques avec (B) de 43 à 69,9999 % d'un mélange de polyols de (i) un diol polymère ayant une masse moléculaire moyenne de 500 à 1 500, tel qu'un carbonate diol pour des fenêtres dures et un polyéther polyol pour des fenêtres souples et de (ii) un triol ayant une masse moléculaire moyenne de 120 à 320 dans un rapport massique de (B)(i) diol polymère à (B)(ii) triol de 1,6:1 à 5,2:1, et d'un catalyseur, de préférence d'une amine secondaire ou tertiaire ou de néodécanoate de bismuth, tous les pourcents en masse rapportés à la masse totale de solides du mélange réactionnel. The present invention provides a chemical mechanical (CMP) polishing pad for polishing, for example, a semiconductor substrate, having one or more endpoint detection windows (windows) which at a thickness of 2 mm would have a UV cut-off at a wavelength of 325 nm or lower which are the product of a reaction mixture of (A) from 30 to 56 wt. % of one or more cycloaliphatic diisocyanates or polyisocyanates with (B) from 43 to 69.9999 a polyol mixture of (i) a polymeric diol having an average molecular weight of from 500 to 1,500, such as a polycarbonate diol for hard windows and a polyether polyol for soft windows and (ii) a triol having an average to molecular weight of from 120 to 320 in a weight ratio of (B)(i) polymeric diol to (B)(ii) triol ranging from 1.6:1 to 5.2:1, and a catalyst, preferably a secondary or tertiary amine or bismuth neodecanoate, all weight percent's based on the total solids weight of the reaction mixture.