PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT CONTAMINE PAR DES PARTICULES

La présente invention concerne un procédé de nettoyage d'un substrat contaminé par des particules, comprenant les étapes suivantes : - dépôt en surface du substrat d'une matrice polymère comprenant de l'eau et un polymère d'au moins un monomère acrylique de formule CH2=CR1-C(=O)-...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: REYNES, MATHIAS, CLAVAGUERA, SIMON, MOTELLIER, SYLVIE
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:La présente invention concerne un procédé de nettoyage d'un substrat contaminé par des particules, comprenant les étapes suivantes : - dépôt en surface du substrat d'une matrice polymère comprenant de l'eau et un polymère d'au moins un monomère acrylique de formule CH2=CR1-C(=O)-R2 avec R1 = H ou CH3 R2 = NH2 ; NHR3 ; NR3 2 ; ou OR3 R3 = H ou un groupement hydrocarboné comprenant 1 à 22 atomes de carbone imprégnation des particules dans la matrice polymère ; formation d'un vernis par séchage de la matrice polymère ; élimination du vernis et des particules piégées dans le vernis. The present invention relates to a process for cleaning a substrate contaminated by particles, comprising the following steps: - depositing on the surface of the substrate a polymer matrix comprising water and a polymer, the polymer consisting of units derived from one or more acrylic monomers of formula CH2 =CR1-C(=O)-R2, and optionally at least one crosslinking agent, with R1= H or CH3, R2= NH2 ; NHR3; NR32; or OR3, R3= H or a hydrocarbon-based group comprising 1 to 22 carbon atoms; - impregnating particles into the polymer matrix; - forming a varnish by drying the polymer matrix; -removing the varnish and the particles trapped in the varnish.