TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURETHANE A HAUTE STABILITE

L'invention fournit un tampon de polissage approprié pour planariser au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques et magnétiques, qui est une matrice polymérique en polyuréthane coulé formée à partir d'une molécule à terminaison isocyanate et d'un agent de durciss...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	QIAN, BAINIAN, TSAI, KUN-MING, JACOB, GEORGE C
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING PERFORMING OPERATIONS POLISHING TRANSPORTING
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