COMPOSITION DE POLISSAGE CHIMIQUE MECANIQUE ET PROCEDE POUR POLIR DU TUNGSTENE

Il est mis à disposition une composition de polissage mécanochimique et un procédé pour polir du tungstène, comprenant : un abrasif à base d'oxyde métallique ; un oxydant ; une substance de formule I amplifiant la vitesse d'élimination du tungstène ; et de l'eau ; dans lesquels la com...

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Hauptverfasser:	GUO, YI, LAVOIE, JR., RAYMOND L
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMISTRY DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES DYES FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS PERFORMING OPERATIONS POLISHES POLISHING POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SKI WAXES TOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING TRANSPORTING
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Zusammenfassung:	Il est mis à disposition une composition de polissage mécanochimique et un procédé pour polir du tungstène, comprenant : un abrasif à base d'oxyde métallique ; un oxydant ; une substance de formule I amplifiant la vitesse d'élimination du tungstène ; et de l'eau ; dans lesquels la composition de polissage présente une meilleure vitesse d'élimination du tungstène et une amplification de la vitesse d'élimination du tungstène. A composition and method for tungsten is provided comprising: a metal oxide abrasive; an oxidizer; a tungsten removal rate enhancing substance according to formula I; and, water; wherein the polishing composition exhibits an enhanced tungsten removal rate and a tungsten removal rate enhancement.