FEUTRE DE POLISSAGE MECANO-CHIMIQUE AVEC COUCHE DE POLISSAGE ET FENETRE

Il est fourni un feutre de polissage mécano-chimique (10) présentant une couche de polissage (20) ; et une fenêtre de détection de point limite (30) incorporée dans le feutre de polissage mécano-chimique, dans lequel la fenêtre de détection de point limite est une fenêtre bouchon-en-place ; dans leq...

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Hauptverfasser: REPPER ANGUS, NOWLAND JOHN G, JAMES DAVID B, HENDRON JEFFREY J, MURNANE JAMES, DEGROOT MARTY W, JENSEN MICHELLE, YEH FENGJI, QIAN BAINIAN
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Il est fourni un feutre de polissage mécano-chimique (10) présentant une couche de polissage (20) ; et une fenêtre de détection de point limite (30) incorporée dans le feutre de polissage mécano-chimique, dans lequel la fenêtre de détection de point limite est une fenêtre bouchon-en-place ; dans lequel la fenêtre de détection de point limite comprend un produit de réaction d'ingrédients, comprenant : un prépolymère de fenêtre, et, un système de durcisseur de fenêtre, comprenant : au moins 5 % en poids d'un durcisseur de fenêtre difonctionnel ; au moins 5 % en poids d'un durcisseur de fenêtre de polyol initié par une amine ; et, de 25 à 90 % en poids d'un durcisseur de fenêtre de polyol de masse molécule élevée. A chemical mechanical polishing pad is provided having a polishing layer; and an endpoint detection window incorporated into the chemical mechanical polishing pad, wherein the endpoint detection window is a plug in place window; wherein the endpoint detection window comprises a reaction product of ingredients, comprising: a window prepolymer, and, a window curative system, comprising: at least 5 wt % of a window difunctional curative; at least 5 wt % of a window amine initiated polyol curative; and, 25 to 90 wt % of a window high molecular weight polyol curative.