SOURCE PLASMA RADIO­FREQUENCE A COUPLAGE INDUCTIF

La présente invention concerne une source plasma (120) radio-fréquence à couplage inductif comportant un générateur (124) radio-fréquence adapté à délivrer une puissance (PRF) radio-fréquence à une bobine (126) inductive alimentée par ledit générateur grâce à des moyens d'amenée de courant, lad...

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Hauptverfasser: BOUCHAIB, PIERRE, AING, Phannara
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:La présente invention concerne une source plasma (120) radio-fréquence à couplage inductif comportant un générateur (124) radio-fréquence adapté à délivrer une puissance (PRF) radio-fréquence à une bobine (126) inductive alimentée par ledit générateur grâce à des moyens d'amenée de courant, ladite bobine étant enroulée autour d'une cavité (127) à plasma de forme sensiblement cylindrique qui contient un gaz à ioniser et qui présente, selon une direction parallèle à une génératrice, une dimension longitudinale (L) caractéristique, et dans sa section, une dimension transversale (D) caractéristique, ladite cavité à plasma comprenant, d'une part, des moyens d'alimentation en gaz, et, d'autre part, un diffuseur (123A) percé d'une pluralité de trous traversants (123B) et destiné à générer un flux (120A) d'espèces atomiques ou moléculaires réactives. Selon l'invention, la source plasma est caractérisée en ce que : - le rapport dimensionnel (R) de ladite cavité à plasma, à savoir le rapport entre ladite dimension transversale caractéristique et ladite dimension longitudinale caractéristique de la cavité, est compris entre 0,45 et 2, et - la transparence (T) du diffuseur, à savoir le rapport entre la surface totale (STH) desdits trous traversants et la surface utile (Su) du diffuseur, est supérieure à 4%.