DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR AYANT UNE COUCHE DE CARBURE DE SILICIUM ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
Un procédé de fabrication de composant semiconducteur (100) est proposé. Le procédé comporte la réalisation d'une couche semiconductrice (120) en carbure de silicium, la couche semiconductrice (120) comprenant une première région (121) dopée avec un premier type de dopant. Le procédé comporte e...
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Format: | Patent |
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