DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR AYANT UNE COUCHE DE CARBURE DE SILICIUM ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT

Un procédé de fabrication de composant semiconducteur (100) est proposé. Le procédé comporte la réalisation d'une couche semiconductrice (120) en carbure de silicium, la couche semiconductrice (120) comprenant une première région (121) dopée avec un premier type de dopant. Le procédé comporte e...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KENNERLY STACEY JOY, LOSEE PETER ALMERN, BOLOTNIKOV ALEXANDER VIKTOROVICH
Format: Patent
Sprache:fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!