COMPOSITION DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE, EXEMPTE DE CELLULOSE HYDROSOLUBLE, CONCENTRABLE, STABLE

Une composition de polissage chimico-mécanique utile pour polissage chimico-mécanique d'une plaquette de semiconducteurs contenant un métal d'interconnexion, est fournie, comprenant, en tant que composants initiaux : de l'eau ; un inhibiteur de type azole ; un agent tensio-actif organ...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	TUCKER, CHRISTOPHER J, LAKROUT, HAMED, LETIZIA, JOSEPH, LI, XU, SHI, JINJIE, KALANTAR, THOMAS H, HARRIS, KEITH J, KELLEY, FRANCIS
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	ADHESIVES BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS PERFORMING OPERATIONS POLISHES POLISHING POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SEMICONDUCTOR DEVICES SKI WAXES TRANSPORTING
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