PROCEDE DE DEPOT PAR CVD OU PVD DE COMPOSES DE BORE

La présente invention concerne un procédé de dépôt par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou par dépôt physique en phase vapeur (PVD) sur un support, ledit procédé mettant en oeuvre au moins un composé de bore. Ce procédé est particulièrement utile pour fabriquer des cellules solaires photovoltaïq...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: PINCHART AUDREY, JAHAN DENIS
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:La présente invention concerne un procédé de dépôt par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou par dépôt physique en phase vapeur (PVD) sur un support, ledit procédé mettant en oeuvre au moins un composé de bore. Ce procédé est particulièrement utile pour fabriquer des cellules solaires photovoltaïques.L'invention se rapporte également à l'utilisation de composés de bore pour conférer des propriétés optiques et/ou électriques à des matériaux dans un procédé de dépôt par CVD ou par PVD. Ce procédé est également particulièrement utile pour fabriquer une cellule solaire photovoltaïque. The present invention relates to a process for depositing films on a substrate by chemical vapour deposition (CVD) or physical vapour deposition (PVD), said process employing at least one boron compound. This process is particularly useful for fabricating photovoltaic solar cells. The invention also relates to the use of boron compounds for conferring optical and/or electrical properties on materials in a CVD or PVD deposition process. This process is also particularly useful for fabricating a photovoltaic solar cell.