PROCEDE ET DISPOSITIF DE CARACTERISATION, PAR PYROMETRIE ACTIVE, D'UN MATERIAU EN COUCHE MINCE DISPOSE SUR UN SUBSTRAT

L'invention concerne un procédé de caractérisation de matériau (14) par pyrométrie active, le matériau comprenant au moins une couche superficielle de faible épaisseur (140) disposée sur un substrat épais (141). Il comprend les étapes de chauffage de la surface (ZTH) du matériau (140) par exposition à des impulsions laser à cadence élevée, de manière à réaliser une suite de cycles thermiques « croissance - décroissance de température », accompagnés d'une accumulation de chaleur d'un cycle au suivant, de collecte (16, 17) du rayonnement émis, de mesure par un capteur (15) de ce rayonnement et d'acquisition et de traitement (18) des signaux mesurés par comparaison avec des valeurs théoriques obtenues par modélisation, de manière à obtenir des propriétés thermo-physiques pour la caractérisation du matériau.L'invention concerne aussi un dispositif (1) pour la mise en oeuvre du procédé comprenant un laser pulsé (10) à cadence élevé utilisé comme source de chaleur.