PROCEDE DE CONTROLE DES PROCESSUS DE NITRURATION ASSISTEE PAR PLASMA ET SYSTEME METTANT EN OEUVRE LEDIT PROCEDE

La présente invention a pour objet un procédé de contrôle d'un processus de nitruration assistée par plasma comme première étape d'un traitement duplex continu appliqué à des outils de forge à chaud. Le procédé de contrôle d'un processus de nitruration assistée par plasma, d'un s...

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Hauptverfasser:	WALKOWICZ JAN, SUPIOT PHILIPPE, SMOLIK JERZY, BRUDNIAS RAFAL, PRZYBYLSKI JAN, GRUSHIN MIHAIL
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING METALLURGY PHYSICS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	La présente invention a pour objet un procédé de contrôle d'un processus de nitruration assistée par plasma comme première étape d'un traitement duplex continu appliqué à des outils de forge à chaud. Le procédé de contrôle d'un processus de nitruration assistée par plasma, d'un substrat en acier placé dans une enceinte, comprend une étape d'introduction dans ladite enceinte d'un mélange gazeux A comprenant de l'azote, et une étape de formation dans ladite enceinte d'un plasma de décharge comprenant des espèces réactives vis à vis de la nitruration dudit substrat en acier. Ledit procédé comprend en outre les étapes suivantes :a. mesurer par spectroscopie optique d'émission (SOE) les émissions optiques provenant de deux espèces réactives E1 et E2 présentes dans le plasma de décharge dans le voisinage du substrat, pour obtenir des valeurs D1i et D2i correspondant aux signaux analogiques liés aux émissions des espèces E1 et E2 respectivement;b. traiter les données D1i et D2i en vu d'obtenir un paramètre Xi et de comparer celui-ci à une valeur de référence Xr;c. ajuster, le cas échéant, le débit d'au moins un des constituants gazeux et/ou la pression du mélange A afin de maintenir le paramètre X proche de la valeur Xr pendant toute la durée de la nitruration.