TAMPON DE POLISSAGE BIAISE RADIALEMENT ET PROCEDE DE POLISSAGE L'UTILISANT
A polishing layer (140) has an annular polishing track (125) concentric with rotational center (102). The radial micro-channels are formed in the polishing layer within width (133) of the annular polishing track and a majority of the micro channels have a radial orientation and an average width less...
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Format: | Patent |
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