PROCEDE D'ANALYSE DE CARACTERISTIQUES OPTIQUES AINSI QU'APPAREIL DE MESURE D'ECHANTILLONS ET ELLIPSOMETRE SPECTROSCOPIQUE POUR SA MISE EN OEUVRE

La présente invention concerne un procédé pour analyser, notamment à l'aide d'un ellipsomètre spectroscopique (1), la caractéristique optique d'un échantillon (30) comportant un film multicouche. L'ellipsomètre spectroscopique (1) applique une tension à l'échantillon (30) pl...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: HONDA YOSHIHISA, NABATOVA GABAIN NATALIYA, FUNAKUBO HIROSHI, TERAI ASUKA
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:La présente invention concerne un procédé pour analyser, notamment à l'aide d'un ellipsomètre spectroscopique (1), la caractéristique optique d'un échantillon (30) comportant un film multicouche. L'ellipsomètre spectroscopique (1) applique une tension à l'échantillon (30) placé sur une platine (4), à l'aide d'un dispositif d'alimentation électrique (18) et de sondes conductrices (19), polarise, à l'aide d'un polariseur de lumière (3), une lumière à plusieurs longueurs d'onde, émise par une lampe au xénon (2), et projette la lumière polarisée sur l'échantillon (30). La lumière réfléchie par l'échantillon est reçue par un récepteur de lumière (5) et mesurée par le spectromètre (7). Un ordinateur (10) analyse la caractéristique optique de l'échantillon, individuellement pour chaque couche du film, sur la base du résultat de la mesure et d'une valeur calculée à partir d'un modèle qui est formé d'une manière conforme à la structure de l'échantillon. The spectroscopic ellipsometer, by a computer program incorporated therein, applies voltage to a sample placed on a stage, with a power supply device and conducting probe stands, polarizes multi-wavelength light, with a light polarizer, generated by a xenon lamp and irradiates the polarized light to the sample. The sample is provided with a multilayer film and electrodes formed on a substrate and the sample's surface, and light reflected from the sample is received by the light receiver and measured by the spectrometer. The computer analyzes the optical characteristic of the sample individually for each layer of the multilayer film on the basis of the measurement result and a value calculated from a model which is formed according to the sample structure.