APPAREIL ET PROCEDE DE DEPOT EN PHASE GAZEUSE PAR PROCESSUS CHIMIQUE

L'invention concerne le dépôt en phase gazeuse par processus chimique.L'appareil comprend une chambre de revêtement chauffée (20), un conduit d'amenée de gaz de revêtement (22) disposé sur une longueur de ladite chambre de revêtement de telle manière que ledit gaz de revêtement soit p...

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Hauptverfasser:	PURVIS ANDREW L, WARNES BRUCE M, NEAR DANIEL L
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	L'invention concerne le dépôt en phase gazeuse par processus chimique.L'appareil comprend une chambre de revêtement chauffée (20), un conduit d'amenée de gaz de revêtement (22) disposé sur une longueur de ladite chambre de revêtement de telle manière que ledit gaz de revêtement soit préchauffé et un conduit de répartition de gaz (18) disposé autour du conduit d'amenée (22) pour répartir vers ladite chambre (20) le gaz de revêtement préchauffé.L'invention permet de former sur un substrat des revêtements plus uniformes. Chemical vapor deposition apparatus and method are provided with coating gas distribution and exhaust systems that provide more uniform coating gas temperature and coating gas flow distribution among a plurality of distinct coating zones disposed along the length of a coating chamber.