Plasma emission spectroscopy analysis includes formation of solution with sample, and gassing solution to create plasma for analysis

the system includes formation of a solution containing the sample, and conversion into gas for analysis within a plasma chamber. The analysis method includes dissolving the sample in a bath containing an etching reagent, and then heating the resulting solution. This leads to a gaseous discharge which is then fed into a plasma in order to measure the intensity of the emission lines. The apparatus includes an inert gas source, a plasma torch and a spectrometer which is connected to a measuring system. A container (B) is equipped with an inlet from the inert gas source (Ar) and a system (E) for introducing a sample, and an inlet for the etching solution (SE). This container has an outlet connected to the plasma torch for analysis. L'invention concerne un procédé d'analyse et de dosage d'éléments par spectrométrie d'émission au plasma. Le procédé d'analyse et de dosage d'éléments contenus dans un échantillon de matériau solide ou liquide, consiste à dissoudre l'échantillon à doser dans un bain contenant un réactif d'attaque approprié, à chauffer, si nécessaire, la solution pour provoquer un dégagement gazeux et à injecter le gaz directement dans le plasma pour mesurer l'intensité des raies d'émission. L'appareillage comprend une source de gaz inerte, une torche à plasma (TP) et un spectromètre (S) connecté à un système de mesure (O), ainsi qu'un conteneur (B), équipé d'une arrivée raccordée à la source de gaz inerte. (Ar) et d'un système d'introduction d'échantillon (E), de réactif d'attaque et/ ou de solution de référence (SE), et d'une sortie connectée à la torche à plasma.Application en métallurgie, en chimie du solide, en minéralogie et en biologie, pour le dosage d'éléments légers tels que le carbone et l'azote.