PROCEDE DE RACCORDEMENT ELECTRIQUE DE PUCES DE TRANSISTOR IGBT MONTEES SUR UNE PLAQUETTE DE CIRCUITS INTEGRES

Ce procédé de raccordement électrique de puces de transistor bipolaire à grille isolée montées sur une plaquette (10) de circuits intégrés consiste à souder des électrodes (26, 28) de collecteur, d'émetteur et de commande de grille sur des emplacements de connexion (14, 16) correspondants des p...

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Hauptverfasser: CHANGEY NICOLAS, RANCHY ERIC, CROUZY SOPHIE, PETITBON ALAIN
Format: Patent
Sprache:fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Ce procédé de raccordement électrique de puces de transistor bipolaire à grille isolée montées sur une plaquette (10) de circuits intégrés consiste à souder des électrodes (26, 28) de collecteur, d'émetteur et de commande de grille sur des emplacements de connexion (14, 16) correspondants des puces. Une partie au moins des électrodes (26) d'émetteur sont réalisées en une seule pièce sous la forme d'une plaque (20) en matériau électriquement conducteur comportant, sur une de ses grandes faces, des parties en saillie délimitant des plots de connexion venant se souder sur les emplacements de connexion correspondants. Electrical connection of an insulated-gate bipolar transistor (IGBT) chip mounted on an integrated circuit chip (10) comprises soldering electrodes (26,28), and forming control grid or gate (28) electrodes on a conducting plate (28) with projecting sections having connection plots which are joined by soldering to the corresponding connection pads. The connection pads (14,16) are covered with a metallic layer, e.g. aluminum, and the process prior to soldering comprises deoxidation of the connection pads, deposition of an antioxidant material, deposition of solder, positioning of the chips with projecting sections to the connection pads, and treatment in an oven for fusion. The antioxidant material is from the group containing nickel, chromium, gold, or an alloy of these metals. The deoxidation is by treating the chips with nitric acid. The plate (20) has an opening for the passage of the gate electrode and the interposition of an insulating material in the formation of the emitter electrodes. In the formation of the emitter electrodes, the gate electrode is formed, and also a supply track insulated from the rest of the chip. The plate (20) is made of anodized metal, e.g. aluminum, and gate electrode production comprises forming a conducting layer by metallization of the anodized plot surface, forming the supply track by metallization of the anodized chip surface, and deposition of a layer of the antioxidant material on the plots. The supply track after formation is covered with a metallic layer. The covering of the metallized track is done by anodizing.