Characterisation method for photorepeater
The standard reticle is produced which defines at least three and preferably five identical reference patterns which are non aligned and preferably at the four corners and centre. The reticle is then placed successively in each photorepeater and various regions of a standard plate are illuminated wi...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The standard reticle is produced which defines at least three and preferably five identical reference patterns which are non aligned and preferably at the four corners and centre. The reticle is then placed successively in each photorepeater and various regions of a standard plate are illuminated with various doses of light (ID). The dimensions of the reference patterns in the different regions (CD) are measured and plotted against the illuminating light dose (ID). An interpolation (IL) is made and may be used to find the dose for each photorepeater such that all patterns will have the same dimension.
L'invention concerne un procédé de caractérisation d'au moins un photorépéteur et d'un même ensemble de motifs réalisé sur plusieurs régions d'une plaquette, consistant à réaliser un réticule étalon définissant au moins une première série d'au moins trois motifs témoins identiques, non alignés; à insoler successivement plusieurs régions d'une plaquette étalon en faisant varier la dose d'éclairement (ID) d'une région à l'autre; à mesurer les dimensions respectives (CD) des motifs témoins obtenus sur les différentes régions de la plaquette pour déterminer, pour chaque dose d'éclairement, la dimension moyenne des motifs témoins; et à effectuer une interpolation linéaire (IL) de ces dimensions moyennes. |
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