Micro-bridge structure for a 2D thermal imaging array
A microbridge structure is fabricated on a substrate by growing a planarising layer composed of a sacrificial layer on the substrate, growing an active material layer on the planarising layer and etching away the sacrificial layer to leave a uniformly thick microbridge of active material. The microb...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Zusammenfassung: | A microbridge structure is fabricated on a substrate by growing a planarising layer composed of a sacrificial layer on the substrate, growing an active material layer on the planarising layer and etching away the sacrificial layer to leave a uniformly thick microbridge of active material. The microbridge structure and an optoelectronic device are also claimed.
Le procédé comprend l'obtention par croissance, sur un substrat (10), d'une couche (42, 44) de formation d'une structure plane, formation par croissance d'une couche de matière ferroélectrique sur la couche (42, 44) de formation d'une structure plane puis l'enlèvement, entièrement ou partiellement, par attaque chimique et polissage, de la couche (42, 44), pour laisser un micropont ferroélectrique ayant une épaisseur uniforme. La couche de formation d'une structure plane peut être une couche à sacrifier (42) ou peut comprendre une couche à sacrifier (42) ainsi que d'autres couches (44).Application: éléments d'un réseau de détecteurs thermiques. |
|---|