Procédé de formation de motif fin dans un dispositif à semi-conducteur

Dans un procédé de formation d'un motif fin d'un dispositif à semi-conducteur, un photorésist est déposé sur une couche (22) devant être dessinée qui est formée sur un substrat (21), le photorésist est tracé grâce à un processus lithographique afin de former ainsi un motif de photorésist (...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM JAE-JO, LEE KANG-HYUN, KIM HYOUNG-SUB, HONG JUNG-IN, HAN MIN-SEOG, HONG JONG-SEO
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!