DEPOT EN PHASE GAZEUSE PAR PROCEDE CHIMIQUE A LASER AVEC UTILISATION D'UN FAISCEAU A FIBRE OPTIQUE

La présente invention concerne un dispositif pour effectuer un dépôt en phase gazeuse par procédé chimique à laser, dans lequel le faisceau laser 204 est introduit dans une chambre de réaction 214, contenant une pièce 218 à soumettre au processus de dépôt via une fibre optique 210. Dans plusieurs mo...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	TUSHAR SHASHIKANT CHANDE
Format:	Patent
Sprache:	fre
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE APPARATUS THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL CRYSTAL GROWTH DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL SEMICONDUCTOR DEVICES SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE SINGLE-CRYSTAL-GROWTH SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL
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Beschreibung
Zusammenfassung:	La présente invention concerne un dispositif pour effectuer un dépôt en phase gazeuse par procédé chimique à laser, dans lequel le faisceau laser 204 est introduit dans une chambre de réaction 214, contenant une pièce 218 à soumettre au processus de dépôt via une fibre optique 210. Dans plusieurs modes de réalisation de l'invention, le réactif gazeux est introduit 248, 250 au voisinage de la pièce au moyen d'une buse 242 fixée à un coupleur de sortie 226 à l'extrémité de sortie de la fibre optique.Application aux dépôts en phase gazeuse par procédé chimique à laser. Apparatus for performing laser chemical vapor deposition (LCVD) as illustrated in Fig 2 uses a laser beam (204) which is transmitted into a reaction chamber (214), containing a workpiece (218) being subjected to LCVD, via an optical fiber (210). In several embodiments, the gaseous reactant is introduced into the proximity of the workpiece by means of a gas nozzle (242) affixed to an output coupling means (226) for focussing the laser beam emitted at the output end of said fiber onto at least a portion of the predetermined region of the workpiece so that the gaseous reactant is deposited thereon.